半導体製造プロセスの安定化と水リスク低減を支えるWiloのポンプソリューション
6インチウェーハ1枚の製造に多大な水を必要とする半導体プロセスにおいて、安定的かつ持続可能な用水供給は、プロセスの精密性や品質、そして歩留まり（イールド）を支える不可欠な要素です。
グローバル市場の厳格な要求事項に応えてきたWiloの半導体ソリューションは、生産停滞を招く「水リスク」を抑え、工場全体の24時間365日の安定稼働をサポートします。
また、変化し続ける製造環境に柔軟に対応し、ポンプシステムの運用効率を最適化することで、エネルギー消費の低減（省エネ）とお客さまのビジネスの持続的な成長に寄与します。
冷水・冷却水ポンプ
冷却システムの核心：冷水・冷却水ポンプ
半導体製造装置は、稼働時に多大な熱を発生させます。この熱を適切に管理することは、装置のパフォーマンス維持において欠かせない要素であり、不十分な冷却は生産計画に影響を及ぼす可能性があります。
Wiloの冷水および冷却水ポンプは、装置やクリーンルームの温度を一定に保つため、冷却水を安定的に循環させる役割を担っています。24時間365日の連続運転においても安定した性能を発揮し、厳しい産業環境下におけるシステムの稼働維持を支えます。
また、効率的な運用を通じて運用コストの低減を図ると同時に、精密な流量制御によりプロセスの安定化を支援し、結果として歩留まりの維持に寄与します。
プロセスポンプ
生産ラインの安定運用を支える流体移送
プロセスポンプは、半導体生産ラインにおいて用水を循環・供給するために使用されます。高い精度が要求される半導体工程において、一定の流体移送を担い、工程全体の流れを維持する役割を果たしています。
半導体の製造現場では、ポンプに対して高い信頼性と一貫した性能が求められます。Wiloのプロセスポンプは、日々の運用において安定した性能を発揮し、予期せぬ稼働停止のリスクを抑え、生産ラインの安定性を維持することに貢献します。
長期間にわたり安定して稼働を継続することで、システム全体の円滑な運用をサポートし、現場のニーズに合わせた適切なソリューションを提供します。
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Wilo-Atmos GIGA-N
導入事例
